新体裁！纳米压印光刻技能概念股整理（附股）

  现在，全世界最先进的芯片，简直都绕不开ASML（阿斯麦）的DUV（深紫外）和EUV（极紫外）光刻机，但它又贵又难造，那有无别的的的路可走？实际上，光刻技能自身存在多种道路，离工业最近的，当属纳米压印光刻技能。

  1995年，华裔科学家周郁（Stephen Chou）教授初次提出纳米压印概念，从此揭开了纳米压印制造技能的研讨前奏。纳米压印技能是当今最具远景的纳米制造技能之一，很有几率会成为未来微纳电子与光电子工业的根底技能。现在，纳米压印技能在世界半导体技能蓝图（ITRS）中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技能的代表之一。国内外半导体设备制造商、资料商以及工艺商纷繁开端进入这一范畴，短短25年，现已取得很大开展。

  纳米压印光刻（紫外纳米压印）与光学光刻比照（来历：佳能官网、果壳硬科技）

  纳米压印技能首要通过触摸式压印完结图形的搬运，相当于光学曝光技能中曝光和显影工艺进程，然后运用刻蚀传递工艺将结构搬运到其他任何资料上。它就像盖章相同，把栅极长度只要几纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，得到与印章相反的图画，通过脱模就能取得一颗芯片。在职业中，这个章被称为模板，而橡皮泥则被称为纳米压印胶。

  纳米压印技能将现代微电子加工工艺融合于印刷技能中，克服了光学曝光技能中光衍射现象形成的分辨率极限问题，展现了超高分辨率、高效率、低本钱、合适工业化出产的共同优势，从创造至今，一向遭到学术界和工业界的分外的注重。因而，纳米压印技能被称为微纳加工范畴中第三代最有远景的光刻技能之一。

  纳压印光刻不光能够制造分辨率5nm以下的高分辨率图形，还具有相对简略的工艺（比较光学曝光杂乱的体系或电子束曝光杂乱的电磁聚集体系）、较高的产能（可大面积制造）、较低的本钱（世界权威机构评价同制造水平的纳米压印比传统光学投影光刻至少低一个数量级）、较低的功耗、压印模板可重复运用等优势。

  开展至今，相对老练和遍及的纳米压印加工方法包含三类：热纳米压印、紫外纳米压印和微触摸印刷（软刻蚀），其他新式工艺多为此三类工艺的改进版。其间，紫外纳米压印优势最显着，是现在工业化最常见的方法，而微触摸纳米压印则首要运用在在生物化学范畴。

  相关概念股：苏大维格、 美迪凯、腾景科技、炬光科技、汇创达、秋田微、歌尔股份、兆驰股份等。